СВОДНЫЙ ЭЛЕКТРОННЫЙ КАТАЛОГ БИБЛИОТЕК БЕЛАРУСИ	История поисков

=LDR  00000cx\\j22002533\\45\\
=001  BY-NLB-ar1607655
=005  20200821155154.4
=100  \\$a20100526arusy50\\\\\\ca0
=152  \\$bDVNLB
=250  \\$aПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ
=300  1\$aПроцесс химического осаждения тонких пленок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы.
=450  \\$8ruseng$7ca0yba0y$aPECVD$5d
=450  \\$8ruseng$7ca0yba0y$aplasma-enhanced chemical vapor deposition
=450  \\$aосаждение из паровой фазы, стимулированное плазмой
=450  \\$aплазменно-химическое осаждение из газовой фазы
=450  \\$aплазмохимическое газофазное осаждение
=450  \\$aплазмохимическое осаждение из газовой фазы
=550  \\$5w$3BY-NLB-ar1607660$aПЛАЗМАХІМІЧНАЕ АСАДЖЭННЕ
=686  \\$2rugasnti$a31
=801  \0$aBY$bBY-HM0000$c20100526
=856  4\$uhttp://thesaurus.rusnano.com/wiki/article1483$zСайт "Российская корпорация нанотехнологий / Нанотехнологический словарь РОСНАНО."
=856  4\$uhttp://www.rusnanonet.ru/equipment/index.php?by=pop&cat=pec$zПортал российской национальной нанотехнологической сети.
=856  4\$uhttp://www.plasmasystem.ru/technology/pecvd
=999  \\$f1218$t20100526