СВОДНЫЙ ЭЛЕКТРОННЫЙ КАТАЛОГ БИБЛИОТЕК БЕЛАРУСИ	История поисков

=LDR  00000cx\\a22002413\\45\\
=001  BY-CNB-ar2294125
=005  20201221123352.4
=100  \\$a20200312arusy50\\\\\\ca0
=101  \\$arus$aeng
=102  \\$aRU
=120  \\$aba
=152  \\$aRCR$bBY-auth
=106  \\$a0
=200  \1$aСоболев$bА. М.$gАлександр Михайлович$cэлектроника
=340  \\$aСпециалист в области электроники и наноэлектроники. Окончил Ивановский государственный химико-технологический университет (2018), магистрант (информ. на 2020 г.).
=400  \1$8ruseng$7ca0yba0y$aSobolev$bA. M.$gAlexander M.$cэлектроника
=400  \1$aСоболев$bА. М.$cэлектроника
=801  \2$aBY$bBY-HM0005$c20201221
=801  \0$aBY$bBY-HM0005$c20200312
=810  \\$aFeatures of SiO2 reactive-ion etching kinetics in CF4 + Ar + O2 and C4F8 + Ar + O2 gas mixtures / A. M. Efremov, A. M. Sobolev, K.H. Kwon // Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология. — 2020. — Т. 63, вып. 9. — С. 21–27.
=856  4\$uhttps://www.isuct.ru/department/ktpimet/news/2019/04/12/pozdravlyaem-aleksandra-soboleva-prizera-vserossiyskoy$zCайт Ивановского государственного химико-технологического университета.$zДата обращения: 21.12.2020.
=856  4\$uhttp://main.isuct.ru/node/13296$zCайт Ивановского государственного химико-технологического университета. Золотой выпуск – 2018.$zДата обращения: 21.12.2020.
=999  \\$g03163 cnb-okv$t20201221