| № | Дата |
Автор |
Заглавие |
|---|
|
2007 |
|
Иркутскому институту химии им. А. Е. Фаворского СО РАН 50 лет : (академическая химия Восточной Сибири) / Российская академия наук, Сибирское отделение, Иркутский институт химии им. А. Е. Фаворского ; ответственные редакторы: Б. А. Трофимов, М. Г. Воронков |
|
2014 |
Воронков, Михаил Григорьевич (доктор химических наук ; 1921—2014) |
Силаноны. От эфемеров к мономерам, олигомерам и полимерам / М. Г. Воронков, С. В. Басенко ; ответственный редактор М. П. Егоров ; [Российская академия наук, Сибирское отделение, Иркутский институт химии им. А. Е. Фаворского] |
|
2011 |
|
Михаил Григорьевич Воронков : библиография трудов, 2006 — 2010 гг. / Иркутский институт химии им. А. Е. Фаворского Сибирского отделения РАН ; [составитель и ответственный редактор И. И. Цыханская] |
|
2013 |
|
Химия ацетилена: новые главы / Н. К. Гусарова [и др.] ; под редакцией М. П. Егорова ; Российская академия наук, Сибирское отделение, Иркутский институт химии им. А. Е. Фаворского |
|
2012 |
Воронков, Михаил Григорьевич (доктор химических наук ; 1921—2014) |
Генезис и эволюция химии органических соединений германия, олова и свинца / М. Г. Воронков, К. А. Абзаева, А. Ю. Федорин ; ответственный редактор Б. А. Трофимов ; Российская академия наук, Сибирское отделение, Иркутский институт химии им. А. Е. Фаворского |
|
2018 |
Алиев, Исмаил Ахмедали оглы (доктор химических наук ; род. 1947) |
Ароматические тиолы и их производные / И. А. Алиев, Л. А. Опарина, Б. А. Трофимов ; под редакцией М. П. Егорова ; Российская академия наук, Сибирское отделение, Иркутский институт химии им А. Е. Фаворского, Бакинский государственный университет |
|
2014 |
Воронков, Михаил Григорьевич (доктор химических наук ; 1921—2014) |
О химии и жизни : 70 лет идей, исследований и свершений / М. Г. Воронков ; [Российская академия наук, Сибирское отделение, Иркутский институт химии им. А. Е. Фаворского] |
|
2013 |
|
Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники = Fundamental Bases of Chemical Vapour Deposition Procesess of Films and Structures for Nanoelectronics / [Ф. А. Кузнецов и др.] ; ответственный редактор Т. П. Смирнова ; Российская академия наук, Сибирское отделение, Институт неорганической химии им. А. В. Николаева, Иркутский институт химии им. А. Е. Фаворского, Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова |
СВОДНЫЙ ЭЛЕКТРОННЫЙ КАТАЛОГ